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知行講壇:Oxides with high dielectric permittivity and their application in integrated electronic

發布時間:2023-05-05 點擊:

師資職位 年份 2023年
報告時間 5月8日,14:30-16:30 報告地址 工7-412
報告人 DmitriyGolosov 職稱 副教授

講壇題目:Oxides with high dielectric permittivity and their application in integrated electronic

人:DmitriyGolosov副教授

講座時間:20235814:30-16:30

講座地點:工7-412

主辦單位:研究生院

承辦單位:光電工程學院

摘要:

The presentation discusses the problems of scaling modern integrated circuits and the use of silicon oxide in MOS structures. The requirements for materials for use as a gate dielectric of MOSFET transistors are determined. The properties and features of the formation of films of high-k dielectrics based on simple and complex oxides are considered.

個人簡介(resume)

DmitriyGolosov,PhD,associateprofessor,leadingreseacherofPlasmaProcessingResearchCenter,BelarusianStateUniversityofInformaticsandRadioelectronics.

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